El pasado 8 de junio tuvo lugar el Innovation Workshop Light Technologies in Functional Print organizado por SECPhO en colaboración con el Cluster de Impresión Funcional de Navarra que impulsa uno de los sectores más innovadores y con mayor perspectiva de crecimiento a nivel industrial.
El objetivo del workshop consistía en detectar oportunidades de nuevas aplicaciones industriales mediante la impresión funcional y los dispositivos fotónicos. Para ello se explotaron las sinergias entre ambos sectores, en un entorno dinámico. En concreto, participaron las siguientes entidades: CEMITEC, GRÁFICAS XAVIER, TORRASPAPEL, GRÁFICAS ULZAMA, EMBEGA, GRÁFICAS LARRAD, LAN PRINTECH, GRÁFICAS LIZARRA, ESTELLAPRINT, GRÁFICAS URDIN, GRÁFICAS CEMS, PAPELES EL CARMEN, IN2UB, ICFO, HAMAMATSU Photonics, UNIVERSIDAD PÚBLICA DE NAVARRA, EURECAT, ROFIN-BAASEL, CEIT-IK4, LASER 2000 y LEITAT.
La jornada se inició con la bienvenida a cargo de los clusters managers Mar González y Sergio Sáez, y proseguió con una presentación de todas las entidades participantes a través de la dinámica Elevator Pith.
Una vez hechas las presentaciones, la metodología de la jornada se centró en generar debate en torno a dos bloques temáticos. El primero, dedicado a La técnica LIFT en la impresión funcional, contó con la exposición de Fernando Varela, responsable del Área Deposición de Materiales en CEMITEC y con la de Pere Serra, profesor e investigador en el Instituto de Nanociencia y Nanotecnología de la Universidad de Barcelona (IN2UB) y uno de los mayores expertos en nuestro país de esta novedosa técnica. Ambas exposiciones fueron el preámbulo a un rico debate entre todos los participantes. El segundo bloque temático trató los Nuevos retos en el tratamiento de superficies (pre-curado y post-curado). Javier Pérez, director comercial y de innovación en EMBEGA presentó necesidades de innovación en este ámbito y, a continuación, se dio paso a la exposición de soluciones por parte de diversos socios de SECPhO: Mikel Azcona (CEIT) nos habló de la “Sinterización láser de tintas funcionales obtenidas a partir de nanopartículas cerámicas”; Lorenzo Bautista (LEITAT), sobre “Tecnología de plasma atmosférico como pre- y post-tratamiento en continuo de materiales flexibles impresos”; Eugenia Martínez (EURECAT) se centró en la “Impresión de dispositivos optoelectrónicos”; por su parte, Juan Luis Vadillo (LASER 2000) hizo su presentación en torno a la “Medida precisa de alturas, espesores y topografía sin contacto”; y, por último, Jordi Sobrino (Hamamatsu) mostró “Soluciones de curado y tratamiento superficial para impresión». Todas las presentaciones generaron un rico contenido que sentó las bases del debate posterior entre todos los asistentes.
Tras un networking lunch, se organizaron breves reuniones B2B entre los participantes con el objetivo de fomentar la colaboración entre ambos sectores. La jornada se finalizó con estupendas valoraciones por parte de los asistentes, lo que invitó a los organizadores a lanzar una nueva propuesta de innovation workshop conjunto en los próximos meses y tratar en profundidad los temas de mayor interés. Sin duda, esta apuesta de continuidad es la mejor expresión del éxito de la jornada.
Podéis ver las fotos de la jornada clicando aquí.
